海南三亚半导体清洗用水设备

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
　　我公司现采用##工艺，反渗透作预处理再配上电去离子（EDI）装置，这是目前制取超纯水最经济，最环保用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境无破坏性。
功 能
脱盐率高，运行压力低的进口超低卷式复合反渗透膜，产水水质优良，运行成本低廉，使用寿命长。
高效率，低噪音，品质优越的进口高压泵，减少能耗，降低运行噪声。
进口在线原水及产品水电导仪，PH表可随时监测水质情况。
进口在线产品水，浓水流量计可随时监测产品水量及系统回收率。
配置自动循环冲洗系统，以备膜污染后清洗之用。
快冲阀定时冲洗膜表面，降低膜污染速度，延长使用寿命。
降TOC紫外线 装置可有效降低TOC90%。
膜脱气装置可使脱气后水中溶解的氧DO小于5ppb。