本多W-200-HFMK II

本多超声波清洗机W-200-HFMK II 适合细腻的清洗
因为中频清洗，对工件损伤很少。并且和低频清洗相比，具有清洗效果均匀，噪音小的特点。
容易清洗微小的赃物
适合于清洗硬盘，半导体，液晶等微小的赃物。
适合于染色，脱气，溶解，搅拌等用途
使用于磁头，镜片等的染色和脱气，化学品的溶解和搅拌等。

型号：W-200-HFMK II T
振荡方式：单频振荡
最大功率：200W(可调整功率)
振荡频率：200KHz
振荡器电源：AC100V/6A、AC200、220V/3A
(定货时选择)
外形尺寸(mm)W×D×H：3000×430×140
使用液温范围：50℃
换能器类型：投入型换能器、振动板型换能器